[发明专利]碳化硅单晶的制造装置和碳化硅单晶的制造方法无效
申请号: | 201080017131.0 | 申请日: | 2010-03-19 |
公开(公告)号: | CN102395716A | 公开(公告)日: | 2012-03-28 |
发明(设计)人: | 奥野宪一郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社普利司通 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B23/06 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了碳化硅单晶的制造装置(1),其包括:反应容器主体(11),上部开口且于底部(11a)容纳升华用原料(50);和盖体(12),覆盖该反应容器主体(11)的上部开口(11b);和筒状的引导构件(70),设置在上述反应容器主体(11)内,在晶种(60)生长形成碳化硅单晶时引导该碳化硅单晶生长。引导构件(70)以可分离成第1分割体和第2分割体的方式构成。 | ||
搜索关键词: | 碳化硅 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种碳化硅单晶的制造装置,其特征在于,其包括:反应容器主体,上部开口,于底部容纳升华用原料;和盖体,覆盖该反应容器主体的上部开口,并且在背面侧配设晶种;和筒状的引导构件,设置在所述反应容器主体内,将所述升华用原料升华而得到的原料气体引导至晶种,并且在所述晶种生长形成碳化硅单晶时引导碳化硅单晶生长,所述引导构件由多个分割体构成。
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