[发明专利]用于光学透明基板的抗反射涂层有效
申请号: | 201080017276.0 | 申请日: | 2010-06-09 |
公开(公告)号: | CN102405533A | 公开(公告)日: | 2012-04-04 |
发明(设计)人: | S·穆克霍帕赫亚伊;Y·潘迪;L·丹克斯 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 范赤;李炳爱 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明描述了抗反射涂层和涂层溶液,光学透明元件以及制备抗反射涂层和涂层溶液的改进工艺。所述抗反射涂层由至少两种不同的烷氧基硅烷材料经碱催化反应形成。 | ||
搜索关键词: | 用于 光学 透明 反射 涂层 | ||
【主权项】:
一种光学透明元件,其包括:光学透明基板;和在所述光学透明基板的至少一个表面上设置的抗反射涂层,所述抗反射涂层含有聚合物,所述聚合物包括:至少一个四烷氧基硅烷残基;和选自包含三烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷、单烷氧基硅烷及其组合构成的组中的至少一个的第二种烷氧基硅烷残基,其中所述聚合物中相对于聚合物的总摩尔数含有至少50%摩尔百分含量的所述至少一个四烷氧基硅烷残基,且所述涂层中含有平均尺寸不大于100nm的聚合物粒子。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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