[发明专利]使用了干涉的膜厚计测装置及使用了干涉的膜厚计测方法有效
| 申请号： | 201080018184.4 | 申请日： | 2010-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102414537A | 公开（公告）日： | 2012-04-11 |
| 发明（设计）人： | 追风宽岁;浦岛毅吏 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的膜厚计测装置将表面形成有透明膜(16)的基板(103)载置于载置部(100)，利用半透半反镜(102)对来自光源(101)的光进行分支而使光向基板表面及参照面照射，并使来自基板表面及参照面的反射光重合而形成干涉光，利用摄像装置(105)拍摄干涉光，基于其拍摄结果利用运算装置(106)算出透明膜的膜厚。运算装置具有：预先对向透明膜的入射光与反射光之间的第一相位光谱的变化量进行数据库化而作成的光谱变化量数据库(106s)；对摄像装置拍摄到的透明膜的干涉信号进行傅立叶变换而算出透明膜的第二相位光谱的第二相位光谱算出部(106b)；从数据库中选择与第二相位光谱一致度最高的第一相位光谱，使用所选择出的第一相位光谱来计测透明膜的膜厚的膜厚算出部(106d)。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 干涉 膜厚计测 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种使用了干涉的膜厚计测装置，具备：载置部，其对表面形成有透明膜的基板进行载置；光源，其对载置于所述载置部的所述基板照射光；半透半反镜，其对来自所述光源的所述光进行分支而使所述光向所述基板的表面及参照面照射，并使来自所述基板的所述表面及所述参照面的反射光重合而形成干涉光；摄像装置，其拍摄所述干涉光；运算装置，其基于所述摄像装置的拍摄结果而算出所述透明膜的膜厚，所述运算装置具有：预先对向所述透明膜的入射光与反射光之间的第一相位光谱的变化量进行数据库化而作成的光谱变化量数据库；对所述摄像装置拍摄到的所述透明膜的干涉信号进行傅立叶变换而算出所述透明膜的第二相位光谱的第二相位光谱算出部；从所述光谱变化量数据库中选择与所述第二相位光谱一致度最高的第一相位光谱，使用所选择出的所述第一相位光谱来计测所述透明膜的膜厚的膜厚算出部。
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