[发明专利]偏振片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080019257.1 申请日: 2010-04-28
公开(公告)号: CN102414587A 公开(公告)日: 2012-04-11
发明(设计)人: 泽田浩明;喜多川丈治;上条卓史 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/1335
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 作为得到偏振片的方法,已知有如下方法:将聚乙烯醇薄膜用含碘的染色液染色,然后进行拉伸,浸渍在碘化钾水溶液中来进行碘离子含浸处理,进一步浸渍在醇液中来进行醇液浸渍处理。然而,通过该制造方法得到的偏振片存在偏光度低这样的问题。本发明为制造含碘的膜厚为0.6μm~5μm的由聚乙烯醇系树脂层形成的偏振片的方法,其包括下述工序A~工序C。工序A:拉伸聚乙烯醇系树脂层而得到拉伸层的工序。工序B:将拉伸层浸渍在含碘的染色液中而得到由三刺激值Y求得的吸光度为0.4~1.0的染色层的工序。工序C:以使吸光度降低0.03~0.7的方式除去吸附于染色层的一部分碘的工序。
搜索关键词: 偏振 制造 方法
【主权项】:
一种偏振片的制造方法,其特征在于,其为含碘的、膜厚为0.6μm~5μm的由聚乙烯醇系树脂层形成的偏振片的制造方法,该制造方法包括下述工序A~工序C:工序A:拉伸聚乙烯醇系树脂层而得到拉伸层的工序;工序B:将所述拉伸层浸渍在含碘的染色液中而得到由三刺激值Y求得的吸光度为0.4~1.0(透射率T=40%~10%)的染色层的工序;工序C:以使所述染色层的所述吸光度降低0.03~0.7的方式除去吸附于所述染色层的一部分碘、并且使所述染色层的所述吸光度不小于0.3的工序。
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