[发明专利]用于相衬成像的光栅在审
| 申请号： | 201080021691.3 | 申请日： | 2010-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN102428522A | 公开（公告）日： | 2012-04-25 |
| 发明（设计）人： | T·克勒;E·勒斯尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于X射线微分相衬成像的光栅，用于生成对象的相衬图像的聚焦探测器布置和X射线系统，以及用于检查感兴趣对象的相衬成像方法。为了提供具有高纵横比但低成本的光栅，提出一种用于X射线微分相衬成像的光栅，其包括第一子光栅(112)和至少第二子光栅(114；116；118)，其中所述子光栅各自包括以一节距(a)周期性布置的、具有棒状物(122)和间隙(124)的主体结构(120)，其中所述子光栅(112；114；116；118)在X射线束的方向上连续布置，并且其中，所述子光栅(112；114；116；118)垂直于所述X射线束彼此移位定位。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 成像 光栅 | ||
【主权项】：
一种用于X射线微分相衬成像的光栅，包括‑第一子光栅(112)；和‑至少第二子光栅(114；116；118)；其中，所述子光栅各自包括以一节距(a)周期性布置的、具有棒状物(122)和间隙(124)的主体结构(120)；其中，所述子光栅(112；114；116；118)在X射线束的方向上连续布置；并且其中，所述子光栅(112；114；116；118)垂直于所述X射线束彼此移位定位。
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