[发明专利]用于反向图案化的方法和材料有效
| 申请号： | 201080022154.0 | 申请日： | 2010-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN102439069A | 公开（公告）日： | 2012-05-02 |
| 发明（设计）人： | M·L·布拉德福德;E·S·梅尔;竹内香须美;S·王;C·耶克尔 | 申请（专利权）人： | 道康宁公司 |
| 主分类号： | C08G77/18 | 分类号： | C08G77/18;C08L83/04;C09D183/04;G03F7/20;G03F7/075 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 武晶晶;郑霞 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 将硅倍半氧烷树脂施用于图案化光致抗蚀剂之上并固化，以在图案表面之上产生固化的硅倍半氧烷树脂。随后，使用碱性水溶液汽提剂或含CF4的反应离子蚀刻配方以将硅树脂“反蚀刻”到光致抗蚀剂材料之上，暴露光致抗蚀剂的整个上表面。接着，含O2的第二反应离子蚀刻配方蚀刻掉光致抗蚀剂。得到具有被图案化到光致抗蚀剂中的柱的尺寸和形状的通孔的硅树脂膜。任选地，可将新的图案转印到下层中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反向 图案 方法 材料 | ||
【主权项】：
一种硅倍半氧烷树脂，包含以下单元：(MeSiO(3‑x)/2(OR’)x)m(RSiO(3‑x)/2(OR’)x)n(R1SiO(3‑x)/2(OR’)x)o(SiO(4‑x)/2(OR’)x)p(Ph(CH2)sSiO(3‑x)/2(OR’)x)q其中Ph是苯基，Me是甲基；R’是氢原子或具有1至4个碳原子的烃基；R是含酸酐的基团，且R1是亲水性基团或疏水性基团；且s具有0、1、2、3或4的值；x具有0、1或2的值；其中在所述树脂中，m具有0.1至0.95的值，n具有0.020至0.5的值；o具有0至0.5的值；p具有0至0.95的值；q具有0至0.5的值，且m+n+o+p+q＝1。
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