[发明专利]密封的薄膜器件、修补施加到薄膜器件的密封层的方法和系统有效
申请号: | 201080023343.X | 申请日: | 2010-05-20 |
公开(公告)号: | CN102484211A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | C·A·弗舒伦;H·利夫卡;R·A·M·希克梅特 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司;荷兰应用自然科学研究组织 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 初媛媛;刘鹏 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种密封的薄膜器件(10,12,14),一种修补施加到薄膜器件(30)的密封层(20)以制造该密封的薄膜器件的方法,一种修补施加到薄膜器件的密封层以产生密封的薄膜器件的系统(200)以及一种计算机程序产品。该密封的薄膜器件包括薄膜器件和施加到该薄膜器件用以保护该薄膜器件免受环境影响的密封层。该密封的薄膜器件还包括局部施加的修补材料(40、42、44)以密封该密封层中的局部裂口(50)。这种密封的薄膜器件的效果是改善了该密封的薄膜器件的工作寿命。此外,还提高了生产该密封的薄膜器件的生产良率。 | ||
搜索关键词: | 密封 薄膜 器件 修补 施加 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种密封的薄膜器件(10,12,14),包括薄膜器件(30)和施加到该薄膜器件(30)上用以保护该薄膜器件(30)免受环境影响的密封层(20),该密封的薄膜器件(10,12,14)还包括局部施加的修补材料(40;42,44)用以密封该密封层(20)中的局部裂口(50)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司;荷兰应用自然科学研究组织,未经皇家飞利浦电子股份有限公司;荷兰应用自然科学研究组织许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080023343.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电解车间双层烟气净化管道支架结构
- 下一篇:胶带用于粘合光学部件的用途
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择