[发明专利]密封的薄膜器件、修补施加到薄膜器件的密封层的方法和系统有效

专利信息
申请号: 201080023343.X 申请日: 2010-05-20
公开(公告)号: CN102484211A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: C·A·弗舒伦;H·利夫卡;R·A·M·希克梅特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司;荷兰应用自然科学研究组织
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 初媛媛;刘鹏
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种密封的薄膜器件(10,12,14),一种修补施加到薄膜器件(30)的密封层(20)以制造该密封的薄膜器件的方法,一种修补施加到薄膜器件的密封层以产生密封的薄膜器件的系统(200)以及一种计算机程序产品。该密封的薄膜器件包括薄膜器件和施加到该薄膜器件用以保护该薄膜器件免受环境影响的密封层。该密封的薄膜器件还包括局部施加的修补材料(40、42、44)以密封该密封层中的局部裂口(50)。这种密封的薄膜器件的效果是改善了该密封的薄膜器件的工作寿命。此外,还提高了生产该密封的薄膜器件的生产良率。
搜索关键词: 密封 薄膜 器件 修补 施加 方法 系统
【主权项】:
一种密封的薄膜器件(10,12,14),包括薄膜器件(30)和施加到该薄膜器件(30)上用以保护该薄膜器件(30)免受环境影响的密封层(20),该密封的薄膜器件(10,12,14)还包括局部施加的修补材料(40;42,44)用以密封该密封层(20)中的局部裂口(50)。
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