[发明专利]半导体用铜合金接合线无效

专利信息
申请号: 201080024772.9 申请日: 2010-06-23
公开(公告)号: CN102459668A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 宇野智裕;寺岛晋一;山田隆;小田大造 申请(专利权)人: 新日铁高新材料株式会社;日铁新材料股份有限公司
主分类号: C22C9/00 分类号: C22C9/00;C22F1/08;H01L21/60;C22F1/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 段承恩;陈海红
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的是提供一种材料费便宜、在高湿高温环境下的PCT可靠性优异,而且热循环试验的TCT可靠性、球压接形状、楔接合性、环路形成性等也良好的半导体元件用铜系接合线。本发明的半导体用铜合金接合线,其特征在于,是将铜合金拉丝加工而成的,所述铜合金含有0.13~1.15质量%的Pd,其余量为铜和不可避免的杂质。
搜索关键词: 半导体 铜合金 接合
【主权项】:
一种半导体用铜合金接合线,其特征在于,是将铜合金拉丝加工而成的,所述铜合金含有0.13~1.15质量%的Pd,其余量为铜和不可避免的杂质。
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