[发明专利]氧化物烧结体、其制造方法以及氧化物烧结体制造用原料粉末有效
申请号: | 201080024800.7 | 申请日: | 2010-05-28 |
公开(公告)号: | CN102459122A | 公开(公告)日: | 2012-05-16 |
发明(设计)人: | 生泽正克;矢作政隆;长田幸三;挂野崇;高见英生 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
主分类号: | C04B35/00 | 分类号: | C04B35/00;C01G15/00;C04B35/453;C23C14/34;H01L21/203 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种氧化物烧结体,为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa[式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z]表示的氧化物烧结体,其特征在于,该氧化物烧结体中含有的挥发性杂质的浓度为20ppm以下。本发明提供能够应用于制造以下IGZO靶的技术:可以实现该溅射用靶的高密度化及低体电阻化,可以防止靶在制造过程中的膨胀或破裂,并且可以将结瘤的产生抑制到最低限度,可以抑制异常放电,并且可以进行DC溅射。 | ||
搜索关键词: | 氧化物 烧结 制造 方法 以及 体制 原料 粉末 | ||
【主权项】:
一种氧化物烧结体,为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa表示的氧化物烧结体,式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z,其特征在于,该氧化物烧结体中含有的挥发性杂质的浓度为20ppm以下。
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