[发明专利]设备有效
| 申请号： | 201080026506.X | 申请日： | 2010-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN102803558A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | P·索伊尼宁;J·斯卡普 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/54 | 分类号： | C23C16/54;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 林振波 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在衬底表面上进行原子层沉积的设备(1)，通过对衬底(11)表面进行交替的起始物料表面反应来进行原子层沉积，该设备包括：两个或更多个低压室(2)；两个或更多个独立的反应室(8，12)，这些反应室设置用于放在低压室(2)内部；以及至少一个起始物料输入系统(5)，它由两个或更多个低压室(2)共用，以进行原子层沉积。根据本发明，该设备包括至少一个装载装置(6，16)，设置成给反应室(8，12)装载和卸载衬底(11)，以及进一步给低压室(2)装载和卸载反应室(8，12)。 | ||
| 搜索关键词： | 设备 | ||
【主权项】：
一种用于在衬底(11)表面上进行原子层沉积的设备(1)，通过对衬底(11)表面进行交替的起始物料表面反应来进行原子层沉积，该设备包括：两个或更多个低压室(2)；两个或更多个独立的可动反应室(8，12)，这些可动反应室设置用于放在低压室(2)内部；以及至少一个起始物料输入系统(5)，它由两个或更多个低压室(2)共用，其特征在于：该设备包括至少一个装载装置(6)，该装载装置设置成给可动反应室(8，12)装载和卸载衬底(11)，以及进一步给低压室(2)装载和卸载可动反应室(8，12)。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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