[发明专利]光刻设备和方法

摘要

提供一种照射系统，其具有多个反射元件，所述反射元件在引导辐射朝向光瞳平面内的不同位置的不同取向之间是可移动的，由此形成不同的照射模式。每个反射元件能够移动至将辐射引导至内部照射部位组中的一内部照射部位的第一取向、引导辐射至中间照射部位组中的一中间照射部位的第二取向以及引导辐射至外部照射部位组中的一外部照射部位的第三取向。反射元件配置成被取向成使得它们可以引导相等量的辐射朝向内部、中间以及外部照射部位组，并且配置成被取向成使得它们基本上不引导辐射至外部照射部位组并且引导基本上相等量的辐射朝向内部和中间照射部位组。

主权项

一种照射系统，其具有多个反射元件，所述反射元件在引导辐射朝向光瞳平面内的不同部位的不同取向之间是可移动的，由此形成不同的照射模式；每个反射元件能够移动至将辐射引导至内部照射部位组中的部位的第一取向、引导辐射至中间照射部位组中的部位的第二取向以及引导辐射至外部照射部位组中的部位的第三取向；其中所述反射元件配置成被取向成使得它们能够将相等量的辐射引导朝向内部、中间以及外部照射部位组，并且配置成被取向成使得它们基本上不引导辐射至外部照射部位组中并且将基本上相等量的辐射引导朝向内部和中间照射部位组。