[发明专利]准直方法、准直装置及曝光装置

摘要

本发明公开一种输送图案为矩阵状的基板，并对通过摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测受光元件的排列方向上的亮度变化的位置，在基板移动一定距离期间，将在相同位置检测到的亮度变化的次数进行累计，而得到多个边缘个数数据，根据超过了规定的阈值的多个边缘个数数据，来确定上述图案的与输送方向平行的多个长边的位置，运算该多个接近对的中点位置，从该接近对的中点位置中选择与预先设定于摄像机构的目标位置接近的中点位置，算出该中点位置与摄像机构的目标位置的位置偏差量，以该位置偏差量成为规定值的方式使光掩模沿着与基板的输送方向大致正交的方向移动。

主权项

一种准直方法，使光掩模相对于将至少在局部具有长边的图案形成为矩阵状且沿着所述长边方向输送中的被曝光体进行位置对准，其特征在于，执行如下的步骤：对通过具有多个受光元件的摄像机构以一定的时间间隔拍摄到的多个图像依次进行处理而检测所述受光元件的排列方向上的亮度变化的位置的步骤，所述受光元件在与所述被曝光体的输送方向交叉的方向上一直线状地排列；在所述被曝光体移动一定距离期间，将在所述受光元件的排列方向上的相同位置检测到的所述亮度变化的次数在被曝光体的输送方向上进行累计，而得到多个边缘个数数据的步骤；根据超过了利用所述多个边缘个数数据所预先设定的阈值的多个边缘个数数据，来确定所述图案的与所述输送方向平行的多个所述长边的位置的步骤；从所述确定的多个长边的位置中选择与预先设定于所述摄像机构的目标位置接近的长边的位置的步骤；算出所述选择的长边的位置与所述摄像机构的目标位置的位置偏差量的步骤；以所述位置偏差量成为预先设定的值的方式至少使所述光掩模沿着与所述被曝光体的输送方向交叉的方向进行相对移动，而进行所述光掩模与所述被曝光体的位置对准的步骤。