[发明专利]物体检查系统和方法有效
| 申请号： | 201080027901.X | 申请日： | 2010-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN102460129A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | A·邓鲍夫;Y·乌拉迪米尔斯基;Y·沙玛莱;L·斯卡克卡巴拉兹;R·萨拉尔德森;R·雅各布斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/94 | 分类号： | G01N21/94;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开用于物体检查的系统和方法，尤其是用在光刻过程中的掩模版检查。所述方法包括用干涉测量法结合参照辐射束与探测辐射束；和存储它们的复场图像。然后将一个物体的复场图像与参照物体的复场图像对比，以确定差值或差异。所述系统和方法在掩模版的缺陷检查中尤其有用。 | ||
| 搜索关键词： | 物体 检查 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种物体检查系统，包括：布置用于发射参照辐射束的辐射源；布置用以发射入射至将要被检查的物体上的探测辐射束的辐射源；一个或多个光学元件，布置成用干涉测量法结合所述参照辐射束和所述探测辐射束；存储介质，布置用以存储参照物的复场图像；和比较器，布置用于对比将要被检查的物体的复场图像和存储的参照物的复场图像。
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