[发明专利]包含氧化铈和二氧化硅的分散体无效
| 申请号： | 201080028426.8 | 申请日： | 2010-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN102802875A | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | M·克勒尔;W·洛茨;S·黑贝雷尔;M·布兰茨;李玉琢;B·德雷舍尔;D·弗朗茨 | 申请（专利权）人： | 赢创德固赛有限公司;巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | B24D3/00 | 分类号： | B24D3/00;C03C19/00;C09G1/02;C09K3/14;H01L21/321 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 于辉 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 包含氧化铈和二氧化硅的含水分散体，该分散体可通过以下过程获得：首先在搅拌的同时混合氧化铈起始分散体和二氧化硅起始分散体，然后在10000s-1至30000s-1剪切速率下分散，其中a)所述氧化铈起始分散体含有0.5重量％至30重量％氧化铈颗粒作为固相，粒度分布的d50为10nm至100nm，并且pH为1至7，且b)所述二氧化硅起始分散体含有0.1重量％至30重量％胶体二氧化硅颗粒作为固相，粒度分布的d50为3nm至50nm，并且pH为6至11.5，c)条件是所述氧化铈颗粒的粒度分布的d50大于所述二氧化硅颗粒的粒度分布的d50，氧化铈/二氧化硅重量比大于1，并且所述氧化铈起始分散体的量使所述分散体的Z电位为负。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 氧化 二氧化硅 散体 | ||
【主权项】：
含水分散体，其包含氧化铈和二氧化硅，该分散体可通过以下过程获得：首先在搅拌的同时混合氧化铈起始分散体和二氧化硅起始分散体，然后在10000s‑1至30000s‑1的剪切速率下分散，其中a)所述氧化铈起始分散体—含有0.5重量％至30重量％氧化铈颗粒作为固相，—粒度分布的d50为10nm至100nm，—并且pH为1至7，且b)所述二氧化硅起始分散体—含有0.1重量％至30重量％胶体二氧化硅颗粒作为固相，—粒度分布的d50为3nm至50nm，并且—pH为6至11.5，c)条件是—所述氧化铈颗粒的粒度分布的d50大于所述二氧化硅颗粒的粒度分布的d50，—氧化铈/二氧化硅重量比大于1，并且—所述氧化铈起始分散体的量使所述分散体的ZZ电位为负。
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