[发明专利]纹理化DLC涂层的方法及由此纹理化的DLC涂层有效
申请号: | 201080028626.3 | 申请日: | 2010-06-09 |
公开(公告)号: | CN102471888A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 卡罗琳·舒凯;锡德里克·迪克罗;杰罗姆·加维莱;弗雷德里克·桑谢特 | 申请(专利权)人: | 原子能与替代能源委员会 |
主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;张耀宏 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及纹理化DLC涂层的方法,包括:在DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层;用氧等离子体干法蚀刻DLC涂层;和清洗所述涂层的表面以去除所述球状物或球状体。 | ||
搜索关键词: | 纹理 dlc 涂层 方法 由此 | ||
【主权项】:
一种纹理化DLC涂层的方法,所述方法包括:‑在所述DLC涂层的自由表面上沉积球状物或球状体的单层,‑用氧等离子体干法蚀刻所述DLC涂层,‑最后,清洗所述涂层以去除所述球状物或球状体。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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