[发明专利]用于测量系统的校准方法有效

专利信息
申请号: 201080029141.6 申请日: 2010-06-24
公开(公告)号: CN102470529A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 伯恩哈德·麦茨勒;贝恩德·瓦尔泽;贝亚特·埃比舍尔 申请(专利权)人: 莱卡地球系统公开股份有限公司
主分类号: B25J9/16 分类号: B25J9/16
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 党晓林;王小东
地址: 瑞士海*** 国省代码: 瑞士;CH
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摘要: 根据本发明,校准测量循环(MZ)被分为几个、尤其是许多个子循环(TZ1,TZ2,TZ3,TZ4,TZ5,TZ6,TZi),给每个子循环分别分配一个或多个校准测量(KM),现在,在遵守节拍(Ta)的情况下,这些子循环(TZ1,TZ2,TZ3,TZ4,TZ5,TZ6,TZi)分别在其中一个定位间歇期(Pa)内进行,从而该校准测量循环(MZ)分散到几个、尤其多个定位间歇周期(Pa)中,并且该校准测量循环(MZ)被整合到工业作业(IP)的流程中,而且不会对该工业作业产生影响。
搜索关键词: 用于 测量 系统 校准 方法
【主权项】:
一种用于测量系统(M)的校准方法(KV),其中所述测量系统(M)被构造用于确定在工业作业(IP)范围内要按规定定位的物体(12,22,32)的定位,并且所述测量系统(M)至少包括·第一拍摄装置(1,1a),所述第一拍摄装置具有□第一摄像机(2,2a),其用于拍摄在第一视界(8,8a)内的第一图像,和□第一角度测量装置(4,4a),其用于高精度地确定所述第一摄像机(2,2a)的第一角度取向,其中,在所述工业作业(IP)内按照已知的节拍(Ta)重复:·在定位阶段(Ph)内按规定定位所述物体(12,22,32),并且通过所述测量系统(M)执行关于所述物体(12,22,32)的定位的测量,·在定位间歇期(Pa)内进行其它作业步骤,尤其是加工步骤、处理步骤、检验步骤和/或输送步骤,其中,所述节拍(Ta)控制所述工业作业(IP)的进展,其中,在所述校准方法(KV)范围内执行以下步骤:·执行一个校准测量循环(MZ)的多个校准测量(KM),包括校准测量数据(KD)的获得,其中所述校准测量循环(MZ)具有至少这样的数量和类型的校准测量(KM),即,能够根据所获得的校准测量数据(KD)确定校准参数(KP),所述校准参数至少涉及所述第一拍摄装置(1,1a)在一个规定坐标系中的位置(P)和取向,和·根据所述校准测量数据(KD)确定出校准参数(KP),其特征在于,·所述校准测量循环(MZ)被分为几个、尤其是许多个子循环(TZ1,TZ2,TZ3,TZ4,TZ5,TZ6,TZi),给每个子循环分别分配所述校准测量(KM)中的一个或多个,和·在遵守所述节拍(Ta)的情况下,这些子循环(TZ1,TZ2,TZ3,TZ4,TZ5,TZ6,TZi)分别在其中一个所述定位间歇期(Pa)内进行,从而所述校准测量循环(MZ)被分散到几个、尤其许多个定位间歇期(Pa)中。
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