[发明专利]用于纯化三氯甲硅烷的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201080029762.4 申请日: 2010-12-27
公开(公告)号: CN102471074A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 崔喆焕;李政锡;崔光郁;申俊浩;金东奎 申请(专利权)人: LG化学株式会社
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 黄丽娟;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供了一种用于纯化三氯甲硅烷的方法,该方法包括:进行预处理,该预处理用于从三氯甲硅烷制备反应的反应产物中分离出包含三氯甲硅烷和四氯甲硅烷作为主要成分的氯硅烷混合物;进行第一纯化,该第一纯化用于将上述氯硅烷混合物分离成包含微量杂质和三氯甲硅烷混合物的第一顶部物流,以及包含四氯甲硅烷作为主要成分的第一底部物流;进行第二纯化,该第二纯化用于将第一顶部物流分离成包含微量低沸点杂质和三氯甲硅烷混合物的第二顶部物流,以及包含微量高沸点杂质和三氯甲硅烷混合物的第二底部物流;和进行第三纯化,该第三纯化用于将第二底部物流分离成包含三氯甲硅烷作为主要成分的第三顶部物流,以及包含微量高沸点杂质和三氯甲硅烷混合物的第三底部物流,其中,进行第三纯化是在比进行第二纯化更高的压力条件下进行的,且在第二底部物流和第三顶部物流之间产生热交换。
搜索关键词: 用于 纯化 三氯甲 硅烷 方法 设备
【主权项】:
一种用于纯化三氯甲硅烷的方法,该方法包括:进行预处理,该预处理用于从三氯甲硅烷制备反应的反应产物中分离出包含三氯甲硅烷和四氯甲硅烷作为主要成分的氯硅烷混合物;进行第一纯化,该第一纯化用于将上述氯硅烷混合物分离成包含微量杂质和三氯甲硅烷混合物的第一顶部物流,以及包含四氯甲硅烷作为主要成分的第一底部物流;进行第二纯化,该第二纯化用于将第一顶部物流分离成包含微量低沸点杂质和三氯甲硅烷混合物的第二顶部物流,以及包含微量高沸点杂质和三氯甲硅烷混合物的第二底部物流;和进行第三纯化,该第三纯化用于将第二底部物流分离成包含三氯甲硅烷作为主要成分的第三顶部物流,以及包含微量高沸点杂质和三氯甲硅烷混合物的第三底部物流,其中,进行第三纯化是在比进行第二纯化更高的压力条件下进行的,且在第二底部物流和第三顶部物流之间产生热交换。
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