[发明专利]III族金属氮化物单晶的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080030599.3 申请日: 2010-07-06
公开(公告)号: CN102471920A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 下平孝直;今井克宏;岩井真 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: C30B9/10 分类号: C30B9/10;C30B29/38;H01L21/208
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 李晓
地址: 日本国爱知县名*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在基板上形成多个III族金属氮化物单晶的晶种膜(3C),此时在基板上形成没有被所述晶种膜(3C)覆盖的非育成面(1b)的晶种膜。通过助熔剂法在所述晶种膜上育成III族金属氮化物单晶。多个晶种膜(3C)由所述非育成面(1b)相互分开,且至少在两个方向上排列。晶种膜(3C)的最大内切圆直径(A)为50μm以上、6mm以下,晶种膜(3C)的外接圆直径为50μm以上、10mm以下,非育成面(1b)的最大内切圆直径为100μm以上、1mm以下。
搜索关键词: iii 金属 氮化物 制造 方法
【主权项】:
一种III族金属氮化物单晶的制作方法,该方法包括:在基板上形成多个III族金属氮化物单晶的晶种膜,此时在基板上形成没有被所述晶种膜覆盖的非育成面的晶种膜制作步骤;和通过助熔剂法在所述晶种膜上育成III族金属氮化物单晶的育成步骤,其特征在于,所述多个晶种膜由所述非育成面相互分开,且至少在两个方向上排列,所述晶种膜的最大内切圆直径为50μm以上、6mm以下,所述晶种膜的外接圆直径为50μm以上、10mm以下,所述非育成面的最大内切圆直径为100μm以上、1mm以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本碍子株式会社,未经日本碍子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080030599.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top