[发明专利]成型电路部件的制造方法无效
申请号: | 201080030924.6 | 申请日: | 2010-07-06 |
公开(公告)号: | CN102471889A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 汤本哲男 | 申请(专利权)人: | 三共化成株式会社 |
主分类号: | C23C18/20 | 分类号: | C23C18/20;H05K3/00;H05K3/10;H05K3/18 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;於毓桢 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明中,代替化学蚀刻剂,照射激光而将基体的表面粗化,由此确保与非电解镀层之间的充分的密合强度。本发明具备下述工序:第1工序,将基体1成型;第2工序,照射第1激光2而将该基体的表面粗化或仅将该表面中成为电路的部分1a粗化;第3工序,向该基体的表面赋予催化剂3;第4工序,使该基体干燥;第5工序,向不成为电路的部分1b照射第2激光4,使该不成为电路的部分的催化剂的功能降低或消失;第6工序,对该成为电路部分的部分施以非电解镀层。 | ||
搜索关键词: | 成型 电路 部件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种成型电路部件的制造方法,其特征在于,具备下述工序:第1工序,将由绝缘材料制成的基体成型,第2工序,照射第1激光而将所述基体的表面粗化或仅将该表面中成为电路的部分粗化,第3工序,将所述基体浸渍在催化剂液中,向该基体的表面赋予用于非电解镀层的催化剂,第4工序,使所述基体的表面干燥,使所述催化剂固定在该基体的表面上,第5工序,向作为所述基体的表面的、不成为电路的部分照射第2激光,使固定于该不成为电路的部分的所述催化剂的功能降低或消失,第6工序,向作为所述基体的表面的、所述成为电路的部分施以非电解镀层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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