[发明专利]使用基于锌、硅和氧的接合层的接合方法及相应的结构体无效

专利信息
申请号: 201080031145.8 申请日: 2010-06-22
公开(公告)号: CN102640303A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 尚塔尔·艾尔纳 申请(专利权)人: 索泰克公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L33/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 丁香兰;庞东成
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明的实施方式涉及用于制造半导体结构体的方法和结构体,所述半导体结构体含有至少一个接合层(106)以使两个以上元件(102、114)彼此连接。所述至少一个接合层可以至少基本上由锌、硅和氧构成。
搜索关键词: 使用 基于 接合 方法 相应 结构
【主权项】:
一种用于制造半导体结构体的方法,所述方法包括:在第一元件和第二元件中的至少一个的表面上提供至少基本上由锌、硅和氧构成的接合层;在所述第一元件和所述第二元件之间设置所述接合层;和使用设置在所述第一元件和所述第二元件之间的所述接合层使所述第一元件和所述第二元件在接合界面处彼此连接。
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