[发明专利]双轴取向聚酯膜和磁记录介质有效
| 申请号： | 201080031380.5 | 申请日： | 2010-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN102459429A | 公开（公告）日： | 2012-05-16 |
| 发明（设计）人： | 光冈秀人;东大路卓司;堀江将人;中森由佳里 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;G11B5/73 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供了一种双轴取向聚酯膜，其特别是在作为磁记录介质的基膜使用时，温度、湿度的环境变化或保存造成的尺寸变化小，可以制成错误率少、并且磁头、磁性带体的磨削少、行走耐久性优异的高密度磁记录介质。本发明提供了具有海岛结构、岛部分的平均分散直径为30～200nm，膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0～6.0ppm/％RH以下的双轴取向聚酯膜。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 聚酯 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种双轴取向聚酯膜，具有海岛结构，岛部分的平均分散直径为30～200nm，膜的长度方向和宽度方向的至少一方向的湿度膨胀系数为0～6ppm/％RH。
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