[发明专利]光催化材料有效
| 申请号： | 201080031529.X | 申请日： | 2010-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN102471146A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | S.洛朗;A.迪朗多;E.瓦朗坦 | 申请（专利权）人： | 法国圣戈班玻璃厂 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 黄念;郭文洁 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及包含基材的材料，该基材在其至少一个面的至少一部分上用包含光催化层和至少一个分别具有高和低折光指数的层的对的堆叠层涂覆，该光催化层的几何厚度为2-30nm，该高和低折光指数层的对被设置在所述光催化层下面使得在该对或每个对中该高折光指数层或每个高折光指数层最靠近该基材。所述材料使得对于350nm波长时该高折光指数层或每个高折光指数层(使光催化层除外)的光学厚度为170-300nm，和使得对于350nm的波长时该低折光指数层或每个低折光指数层的光学厚度为30-90nm。 | ||
| 搜索关键词： | 光催化 材料 | ||
【主权项】：
包含基材的材料，该基材在其至少一个面的至少一部分上用包含光催化层和至少一个分别具有高和低折光指数的层的对的堆叠层涂覆，该光催化层的几何厚度为2‑30nm，该高和低折光指数层的对被设置在所述光催化层下面使得在该对或每个对中该或每个高折光指数层最靠近该基材，所述光催化层与该最远离基材的对的低折光指数层直接接触，所述的材料使得对于350nm波长时该或每个高折光指数层，除光催化层外，的光学厚度为170‑300nm，和对于350nm的波长时该或每个低折光指数层的光学厚度为30‑90nm。
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