[发明专利]CVD腔室的流体控制特征结构

摘要

本发明提供用于气体散布组件的设备与方法。在一方面中，提供一种气体散布组件，其包含：环形本体，其包含：环形圈，其具有内环形壁、外壁、上表面与底表面；上凹部，其形成到该上表面内；及座部，其形成到该内环形壁内；上板，其设置在该上凹部中且包含：盘形本体，其具有多个形成为从其中通过的第一穿孔；及底板，其设置在该座部上且包含：盘形本体，其具有多个形成为从其中通过的第二穿孔，这些第二穿孔和这些第一穿孔对准；及多个第三穿孔，其形成在这些第二穿孔之间且通过该底板，该底板密封地连接到该上板以将该多个第一、第二穿孔与该多个第三穿孔流体地隔离。

主权项

一种气体散布组件，包含：环形本体，其包含：环形圈，其具有设置在内径处的内环形壁、设置在外径处的外壁、上表面和底表面；上凹部，其形成到所述上表面内；唇部，其相对于所述内环形壁径向向外形成；及座部，其形成到所述内环形壁内；上板，其设置在所述上凹部中且包含：盘形本体，其具有形成为从其中通过的多个第一穿孔，其中，这些第一穿孔延伸超过所述本体的表面，从而形成多个凸起的圆柱状本体；及底板，其设置在所述座部上且包含：盘形本体，其具有形成为从其中通过的多个的第二穿孔，这些第二穿孔和这些第一穿孔对准；及多个第三穿孔，其形成在这些第二穿孔之间且通过所述底板，所述底板密封地连接到所述上板以将所述多个第一、第二穿孔与所述多个第三穿孔流体地隔离。