[发明专利]用于垂直磁记录介质中软磁性膜层的CoFeNi-系合金和溅射靶材料有效
申请号: | 201080032150.0 | 申请日: | 2010-06-07 |
公开(公告)号: | CN102804266A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 泽田俊之;长谷川浩之;清水悠子 | 申请(专利权)人: | 山阳特殊制钢株式会社 |
主分类号: | G11B5/667 | 分类号: | G11B5/667;C22C19/07;C22C38/00;C23C14/34;H01F10/13;H01F10/16;H01F41/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 程金山 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种提供一种具有优异的饱和磁通密度、非晶形性、耐腐蚀性和硬度的用于垂直磁记录介质的软磁性Co-Fe-Ni合金。所述Co-Fe-Ni合金包含以原子%计的以下各项:70至92%的Co+Fe+Ni(包括0%的Ni),1至8%的Ta;和多于7%但是20%以下的B。Co-Fe-Ni合金的组成(以原子%表达)满足如下各项的比率:0.1至0.9的Co/(Co+Fe+Ni);0.1至0.65的Fe/(Co+Fe+Ni);0至0.35的Ni/(Co+Fe+Ni);以及1至8的的B/Ta。 | ||
搜索关键词: | 用于 垂直 记录 介质 磁性 cofeni 合金 溅射 材料 | ||
【主权项】:
一种用于在垂直磁记录介质中软磁性膜层的CoFeNi‑系合金,其中所述CoFeNi‑系合金包含以原子%计的如下各项:Co+Fe+Ni:70至92%,条件是Ni含量可以为0;Ta:1至8%;以及B:多于7%且不多于20%,其中CoFeNi‑系合金的组成(原子%)满足下列比率:Co/(Co+Fe+Ni):0.1至0.9;Fe/(Co+Fe+Ni):0.1至0.65;Ni/(Co+Fe+Ni):0至0.35;以及B/Ta:1至8。
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