[发明专利]磁性叠层设计有效
| 申请号： | 201080032381.1 | 申请日： | 2010-07-08 |
| 公开（公告）号： | CN102687215A | 公开（公告）日： | 2012-09-19 |
| 发明（设计）人： | 习海文;A·科伊尔;B·李;P·瑞安;I·金;P·安德森 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | H01F10/32 | 分类号： | H01F10/32;H01L43/08 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 邢德杰 |
| 地址： | 美国明*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 磁性叠层具有自由层、参考层以及两者之间的阻挡层，其中自由层具有可切换的磁化取向，参考层具有被钉扎的磁化取向。叠层包括与自由层电隔离且与参考层物理接触的环形反铁磁钉扎层。在一些实施例中，参考层比自由层大。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性 设计 | ||
【主权项】：
一种磁性叠层，包括：铁磁自由层、铁磁参考层以及两者之间的阻挡层，所述自由层具有可切换的磁化取向，所述参考层具有被钉扎的磁化取向，并且所述自由层、所述参考层和所述阻挡层中的每一个都具有中心；以及具有中心的环形反铁磁钉扎层，所述钉扎层的中心与所述自由层、所述参考层和所述阻挡层中的每一个的中心大体对齐，所述钉扎层与所述自由层电隔离且与所述参考层物理接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希捷科技有限公司，未经希捷科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080032381.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种尼莫地平缓释微丸胶囊制备方法
- 下一篇：风力发电用偏心双转子组件
