[发明专利]系统级封装有效
申请号: | 201080032884.9 | 申请日: | 2010-07-22 |
公开(公告)号: | CN102473684A | 公开(公告)日: | 2012-05-23 |
发明(设计)人: | 林茂雄;李进源 | 申请(专利权)人: | 米辑电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/98 | 分类号: | H01L21/98;H01L25/065;H01L23/48;H01L23/538;H01L27/06;H01L23/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 孟锐 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明描述系统级封装或多芯片模块,其可包含在载体上方的多层芯片与多层虚拟衬底、未完全地或完全地穿过所述多层芯片且完全地穿过所述多层虚拟衬底的多个穿透通孔、在所述穿透通孔中的多个金属插塞,以及在所述多层芯片之间的连接到所述金属插塞的多个金属互连件。所述多层芯片可通过所述金属插塞和所述金属互连件互相连接,或连接到外部电路或结构,例如母板、球栅格阵列BGA衬底、印刷电路板、金属衬底、玻璃衬底或陶瓷衬底。 | ||
搜索关键词: | 系统 封装 | ||
【主权项】:
一种系统级封装,其包括:载体;在所述载体上方的第一芯片,其中所述第一芯片包括具有在1与50微米之间的厚度的第一半导体衬底、在所述第一半导体衬底的底表面下的第一金属层,以及在所述第一半导体衬底的所述底表面下且在所述第一金属层上方的电介质层;在所述载体上方的第二芯片,其中所述第二芯片包括第二半导体衬底,其中所述第二半导体衬底具有实质上与所述第一半导体衬底的上表面共平面的上表面,其中所述第二芯片与所述第一芯片分开;间隙充填材料,其被安置在所述第一芯片与所述第二芯片之间的间隙中;第一金属插塞,其在所述第一芯片中,其中所述第一金属插塞穿过所述第一半导体衬底和所述电介质层,且接触所述第一金属层;第一绝缘材料,其包围所述第一金属插塞,其中所述第一绝缘材料被所述第一半导体衬底包围;第一电介质结构,其在所述第一半导体衬底的所述上表面上、在所述第二半导体衬底的所述上表面上以及在所述间隙充填材料上;第一金属互连件,其在所述第一电介质结构中且在所述第一芯片上方,其中所述第一金属互连件连接到所述第一金属插塞;第三芯片,其在所述第一电介质结构上方且在所述第一金属互连件上方,其中所述第三芯片包括具有在1与50微米之间的厚度的第三半导体衬底;第二金属插塞,其在所述第三芯片中,其中所述第二金属插塞穿过所述第三芯片,且接触所述第一金属互连件;第二绝缘材料,其包围所述第二金属插塞,其中所述第二绝缘材料被所述第三半导体衬底包围;第二电介质结构,其在所述第三半导体衬底的上表面上;和第二金属互连件,其在所述第二电介质结构中且在所述第三芯片上方,其中所述第二金属互连件连接到所述第二金属插塞。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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