[发明专利]用于形成金属线的蚀刻组合物有效
| 申请号： | 201080033704.9 | 申请日： | 2010-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102471898A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 林玟基;李昔准;张尚勋;朴英哲 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/44 | 分类号： | C23F1/44;C23F1/26;C23F1/20 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立;高为华 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于形成金属线的蚀刻组合物，能批量湿蚀刻由选自Ti、Ti合金、Al和Al合金组成的组中的至少一种制成的单层膜或多层膜，并能蚀刻很多层从而极大地增加了蚀刻工艺的生产率，且能提高蚀刻速率并防止损坏底层膜和设备，以及能均匀蚀刻图形/非图形从而展示了较好的蚀刻特性；此外由于无需昂贵的设备以及便于形成大面积的栅极和源极/漏极，因此也很经济。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 金属线 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种蚀刻组合物，用于蚀刻由选自Ti、Ti合金、Al和Al合金组成的组中的至少一种制成的单层膜或多层膜，其中所述组合物包含：基于所述组合物的总重，1～20wt％H2O2，1～7wt％可离解出硝酸根离子的化合物，0.05～2wt％含氟化合物，0.5～6wt％过硫酸盐化合物，和余量水。
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