[发明专利]使用硅纳米粒子流体以原位控制一组掺杂剂扩散分布的方法

摘要

本发明公开了一种在基板上形成多掺杂结的方法。所述方法包括以下步骤：用硼原子掺杂所述基板的正面，并且以图案形式沉积油墨，所述油墨包含一组纳米粒子和一组溶剂；以及在烘焙环境中将所述基板加热至介于约200℃和约800℃之间的第一温度并持续介于约3分钟和约20分钟之间的第一时间段以生成致密膜油墨图案；将所述基板在第二温度下、在具有沉积环境的扩散炉中暴露于掺杂剂源并持续第二时间段，所述沉积环境包括POCh、N2载气、主要N2气体和反应性O2气体，其中所述N2载气与O2气体的比率介于约1∶1至约1.5∶1之间。

主权项

在基板上形成多掺杂结的方法，所述方法包括：提供掺有硼原子的基板，所述基板包括基板正表面；将油墨以油墨图案形式沉积在所述基板正表面上，所述油墨包含一组纳米粒子和一组溶剂；将所述基板在烘焙环境中加热至第一温度并持续第一时间段以生成致密膜油墨图案；将所述基板在第二温度下、在具有沉积环境的扩散炉中暴露于掺杂剂源并持续第二时间段，所述沉积环境包括POCl3、N2载气、主要N2气体和反应性O2气体，其中PSG层在所述基板正表面和所述致密膜油墨图案上形成；以及在驱入环境中将所述基板加热至第三温度；其中具有第一薄层电阻的第一扩散区域在被所述致密膜油墨图案覆盖的基板正表面下形成，并且具有第二薄层电阻的第二扩散区域在未被所述致密膜油墨图案覆盖的基板正表面下形成，并且其中所述第一薄层电阻基本上小于所述第二薄层电阻。