[发明专利]用于形成金属线的蚀刻组合物有效
| 申请号： | 201080033845.0 | 申请日： | 2010-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN102471686A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 林玟基;梁承宰;李喻珍;朴英哲;权五柄 | 申请（专利权）人： | 东友FINE-CHEM股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08;C23F1/10 |
| 代理公司： | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人： | 郑立;高为华 |
| 地址： | 大韩民国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供了用于形成金属线的蚀刻组合物。由于蚀刻组合物能湿蚀刻由选自钛、钛合金、铝和铝合金组成的组中的至少一种制成的单层膜或多层膜，因此能简化蚀刻流程并提高生产率。进一步的，蚀刻组合物具有高蚀刻速率、不会损坏底层膜和设备以及可以在图形和非图形之间进行均匀蚀刻的优异蚀刻特性；并且由于不需要昂贵的设备并能蚀刻大面积的缓冲层因此也很经济。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 形成 金属线 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种蚀刻组合物，所述组合物用于蚀刻由选自钛、钛合金、铝和铝合金组成的组中的至少一种制成的单层膜或多层膜，其中基于所述组合物的总量，所述组合物包含：5～30wt％H2O2；0.1～2wt％含氟化合物；1～10wt％含有氨基和羧基的化合物；0.1～5wt％硝酸盐化合物；和余量水。
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