[发明专利]用于原子层沉积的设备

摘要

本发明公开了用于将材料原子层沉积在移动基底上的设备，所述设备包括用于沿着预定的平面或弯曲行进路径移动基底的传输装置和具有至少一个前体递送通道的涂覆杆。所述前体递送通道将包含待沉积在基底上材料的流体朝向行进路径引导。在使用时，可沿着行进路径移动的基底限定所述前体递送通道的出口端与所述基底之间的间隙。所述间隙限定对于来自前体递送通道的流体流的阻抗Zg。在前体递送通道内部设置了限流器，其表现出对于通过穿过它的流的预定阻抗Zfc。所述限流器的尺寸被设置成使得所述阻抗Zfc为所述阻抗Zg的至少五(5)倍，并且更优选地为至少十五(15)倍。所述阻抗Zfc具有摩擦因子f。前体递送通道中的限流器的尺寸被设置成使得阻抗Zfc具有小于100，并且优选地小于10的摩擦因子f。

主权项

用于将材料原子层沉积在移动基底上的设备，所述设备包括：用于沿着预定行进路径使基底移动通过所述设备的传输装置；具有本文所定义的至少一个前体递送通道的涂覆杆，所述前体递送通道具有出口端，所述前体递送通道能够将包含待沉积在基底上的材料的流体朝向行进路径引导；这样，当使用时，可沿着行进路径移动的基底限定所述前体递送通道的出口端与所述基底之间的间隙，所述间隙限定对于来自所述前体递送通道的流体流的阻抗Zg，设置在所述前体递送通道内部的限流器，所述限流器呈现对于所述前体递送通道中的所述流的预定阻抗Zfc，通过所述阻抗Zfc的所述流具有摩擦因子f，其中所述限流器的尺寸被设置成使得所述阻抗Zfc为所述阻抗Zg的至少五(5)倍并且所述摩擦因子f小于100。