[发明专利]极紫外微光刻的基底与反射镜以及制造它们的方法有效
| 申请号： | 201080034899.9 | 申请日： | 2010-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN102472980A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 威尔弗里德.克劳斯;马丁.韦瑟 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B1/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种反射镜，其包含基底以及用于EUV波长区的反射涂层，其中基底的表面区域在反射涂层之下沿着反射涂层均匀地延伸，并且从基底的表面观察起，该表面区域具有最深达5μm的深度。这里，该表面区域具有比其余基底高2％的密度。此外，本发明涉及同样具有此类表面区域的基底。本发明还涉及通过离子或电子照射而制造具有此类表面区域的此类反射镜与基底的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 微光 基底 反射 以及 制造 它们 方法 | ||
【主权项】：
一种反射镜，包含基底和用于EUV波长区的反射涂层，其特征在于：所述基底的表面区域在所述反射涂层之下沿着所述反射涂层均匀地延伸，且从所述基底的表面观察起，所述表面区域具有最深达5μm的深度，所述表面区域具有比其余基底高2％的密度。
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