[发明专利]晶片级透镜、晶片级透镜的制备方法和成像单元有效
| 申请号： | 201080035795.X | 申请日： | 2010-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN102472837A | 公开（公告）日： | 2012-05-23 |
| 发明（设计）人： | 丸山阳一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B7/02;G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种通过其可以获得足够的遮光性的晶片级透镜，所述晶片级透镜具有至少一个透镜模块，所述透镜模块具有基板和形成在所述基板上的多个透镜，并且具有形成在所述透镜模块的表面上或所述基板的表面上的黑色抗蚀剂层，其中所述黑色抗蚀剂层形成有在与所述透镜的光轴交叉的部分具有开口的图案。此外，可以避免归因于反射光的缺陷如重影和耀斑的产生，并且可以抑制生产成本的增加。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 透镜 制备 方法 成像 单元 | ||
【主权项】：
一种晶片级透镜，所述晶片级透镜具有至少一个透镜模块，所述透镜模块具有基板和在所述基板上形成的多个透镜，其中所述晶片级透镜具有在所述透镜模块的表面上或所述基板的表面上形成的黑色抗蚀剂层，并且所述黑色抗蚀剂层在与所述透镜的光轴交叉的部分形成有具有开口的图案。
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