[发明专利]曝光设备、曝光方法及器件制造方法有效

专利信息
申请号: 201080036624.9 申请日: 2010-06-21
公开(公告)号: CN102460307A 公开(公告)日: 2012-05-16
发明(设计)人: 一之濑刚 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 陈炜;李德山
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 通过设置于平台(14A、14B)下方的测量条(71)具有的多个编码器头、Z头等,利用设置在微动载台(WFS1,WFS2)下表面的光栅,测量晶圆载台(WST1,WST2)的位置信息。因此,可以执行圆载台(WST1,WST2)的位置信息的高精度测量。此外,由于晶圆载台的引导面由经由预定间隙并排设置的两个平台(14A、14B)构成,因此,与平台一体化的情况相比,能够容易地处理各平台,并且容易进行平台附近的维护。
搜索关键词: 曝光 设备 方法 器件 制造
【主权项】:
一种曝光设备,其经由被第一支撑部件支撑的光学系统利用能量光束对物体曝光,所述设备包括:移动体,其能够沿着包括彼此正交的第一轴和第二轴的二维平面移动,同时保持所述物体;引导面形成部件,其具有在所述二维平面内以至少一条分界线作为边界而并排设置的第一部分和第二部分,所述第一部分和所述第二部分形成在所述移动体移动时使用的引导面;第二支撑部件,其经由所述引导面形成部件以远离所述引导面形成部件的方式设置在与所述光学系统相对的侧上,并且所述第二支撑部件与所述第一支撑部件之间的位置关系维持为预定的关系;以及测量系统,其包括利用测量光束照射平行于所述二维平面的测量面并接收来自所述测量面的光的测量部件,并且所述测量系统基于所述测量部件的输出至少获得所述移动体在所述二维平面内的位置信息,所述测量面被布置于所述移动体和所述第二支撑部件之一处,并且所述测量部件的至少一部分被布置于所述移动体和所述第二支撑部件中的另一个处。
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