[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及制造光谱纯度滤光片的方法无效
申请号: | 201080037156.7 | 申请日: | 2010-07-14 |
公开(公告)号: | CN102483583A | 公开(公告)日: | 2012-05-30 |
发明(设计)人: | M·杰克;W·索尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种透射型光谱纯度滤光片配置成透射极紫外辐射(λ<20nm)。滤光片包括网格状结构,包括在例如硅等载体材料中形成的多个微观孔。在该区域的至少一部分内的网格状结构被形成为以便在预期的操作条件范围内具有负的泊松比。通过形成适于在正交方向上同时膨胀或收缩的材料的网格,改善对不同热膨胀的控制。多种几何结构或形状可以实现负的泊松比。孔的几何形状可以是凹入的多边形或具有曲边的凹入的形状。这些示例包括所谓的凹入的或增大的蜂巢,其中每个孔与规则的蜂巢一样是六边形,但是形式是凹入的六边形而不是规则的六边形。 | ||
搜索关键词: | 光谱 纯度 滤光 光刻 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种光谱纯度滤光片,配置成透射极紫外辐射,所述光谱纯度滤光片包括大体平面的滤光片部分,所述滤光片部分包括形成在网格材料的壁之间的孔阵列,所述孔从滤光片部分的前表面延伸至后表面、以透射入射在所述前表面上的极紫外辐射,同时抑制第二类型的辐射的透射,其中在所述滤光片部分的增大部分内的孔的形状和排列形成为使得将负的泊松比赋予所述增大部分。
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