[发明专利]复合坩埚及其制造方法以及硅晶体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080037429.8 申请日: 2010-08-20
公开(公告)号: CN102471926A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 须藤俊明;吉冈拓麿;岸弘史;藤田刚司;神田稔;铃木光一;北原贤 申请(专利权)人: 日本超精石英株式会社
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C03B20/00;C30B15/10
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 翟羽
地址: 日本秋田县*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供适用于耐热强度高且长时间的提拉,并且能以低成本制造的坩埚及其制造方法。复合坩埚(10)具有以氧化铝和氧化硅作为主成分的莫来石所构成的坩埚本体(11)以及形成于坩埚本体(11)的内表面侧的透明氧化硅玻璃层(12),作为坩埚的基本材料使用莫来石(3Al2O3·2SiO2),透明氧化硅玻璃层(12)的厚度比坩埚本体(11)的厚度薄。坩埚本体(11)能根据粉浆滑浇铸法来形成,透明氧化硅玻璃层(12)能根据喷涂法来形成。
搜索关键词: 复合 坩埚 及其 制造 方法 以及 晶体
【主权项】:
一种复合坩埚,具有直筒部以及底部,是用于收容硅熔液的复合坩埚,其特征在于:具有由以氧化铝和氧化硅作为主成分的莫来石材料而成的坩埚本体和形成在上述坩埚本体的内表面侧的透明氧化硅玻璃层,其中,上述透明氧化硅玻璃层的厚度比上述坩埚本体的厚度薄。
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