[发明专利]成膜设备无效

专利信息
申请号: 201080037760.X 申请日: 2010-08-25
公开(公告)号: CN102549190A 公开(公告)日: 2012-07-04
发明(设计)人: 上之园隆秀 申请(专利权)人: 佳能安内华股份有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;G02F1/13
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种成膜设备,其能够减少成膜时薄膜材料粒子到包括在基板托盘中的保持机构的附着。在本发明的实施方式中,溅射室(16)包括:基板托盘(18),其具有底部夹板(31)和侧部夹板(19);移动机构,其使侧部夹板(19)的位置在基板上成膜时的位置和基板被传送时的位置之间改变;以及掩模(27),其具有预定形状的开口(27a),来自阴极的溅射粒子穿过该开口。在传送时,移动机构使侧部夹板(19)移动以使得侧部夹板(19)保持基板(1);在成膜时,移动机构使侧部夹板(19)朝向基板托盘(18)的外侧移动。
搜索关键词: 设备
【主权项】:
一种成膜设备,其包括:基板托盘,其包括用于支撑基板的基板支撑面、配置在所述基板支撑面的周围的支撑部和配置在所述基板支撑面的周围以用于保持所述基板的保持机构,所述基板托盘被构造成能从所述成膜设备拆卸,并且所述基板托盘被构造成能以所述基板支撑面在重力方向上面向上侧并且相对于重力方向倾斜的方式安装在所述成膜设备内;移动机构,其使所述保持机构的位置在所述基板上成膜时的位置和所述基板被传送时的位置之间改变;和掩模,其具有预定形状的开口,来自薄膜材料源的薄膜材料粒子穿过所述开口,所述薄膜材料源面对安装在所述成膜设备内的所述基板托盘,所述掩模用于在被所述基板支撑面支撑的基板上形成所述预定形状的薄膜,其中:当所述基板托盘以倾斜状态安装在所述成膜设备内时,所述支撑部被形成为在重力方向上位于被所述基板支撑面支撑的基板的下侧;在成膜时,所述掩模被配置成覆盖所述保持机构、所述基板托盘和所述基板的被所述支撑部支撑的部分;在传送时,所述移动机构使所述保持机构以保持所述基板的方式移动,在成膜时,在被所述掩模覆盖的区域中,所述移动机构使所述保持机构从在传送时所述基板被所述保持机构保持的位置朝向所述基板托盘的外侧移动。
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