[发明专利]光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，以及使用该组合物的抗蚀剂膜和图案形成方法无效
| 申请号： | 201080038300.9 | 申请日： | 2010-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN102549494A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | 涉谷明规;山口修平;片冈祥平;白川三千纮;加藤贵之;丹吴直纮 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C08F20/10;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 贺卫国 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：(PA)化合物，所述化合物具有质子受体官能团并且当用光化射线或辐射照射时进行分解以产生减小或失去质子受体性的化合物或由质子受体官能性变为酸性，其中化合物(PA)在193nm的波长在乙腈溶剂中测得的摩尔消光系数ε为55,000以下，并且提供使用所述组合物的图案形成方法。 | ||
| 搜索关键词： | 光化 射线 敏感 辐射 树脂 组合 以及 使用 抗蚀剂膜 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物，所述光化射线敏感或辐射敏感树脂组合物包含：(PA)化合物，该化合物具有质子受体官能团并且当用光化射线或辐射照射时进行分解以产生减小或失去质子受体性的化合物或由质子受体官能性变为酸性，其中所述化合物(PA)在193nm的波长在乙腈溶剂中测得的摩尔消光系数ε为55,000以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社，未经富士胶片株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080038300.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：共模电压控制
- 下一篇：一种高温太阳能热水器吸附空调
