[发明专利]环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法无效
申请号: | 201080038687.8 | 申请日: | 2010-08-27 |
公开(公告)号: | CN102597034A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 越后雅敏;林宏美 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C08G8/32 | 分类号: | C08G8/32;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
本发明提供一种下述式(1)所示的环状化合物。(式(1)中,L、R1、R′和m如说明书中所定义的那样)。式(1)所示的环状化合物对安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、且可赋予良好的抗蚀图案形状,因此是有用的辐射敏感组合物的成分。 |
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搜索关键词: | 环状 化合物 制造 方法 辐射 敏感 组合 图案 形成 | ||
【主权项】:
1.一种下述式(1)所示的环状化合物,
式(1)中,各L独立地为选自由单键,碳原子数1~20的直链状或支链状的亚烷基,碳原子数3~20的环亚烷基,碳原子数6~24的亚芳基,-O-,-OC(=O)-,-OC(=O)O-,-N(R5)-C(=O)-、其中R5为氢或碳原子数1~10的烷基,-N(R5)-C(=O)O-、其中R5与前述同义,-S-,-SO-,-SO2-和它们的任意组合组成的组中的二价有机基团;各R1独立地为碳原子数1~20的烷基、碳原子数3~20的环烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数1~20的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基、卤素、羧基、碳原子数2~20的酰基、碳原子数1~20的烷基甲硅烷基、或氢原子;其中,至少1个R1为碳原子数2~20的酰基,且其他的至少1个R1为氢原子;各R’独立地为碳原子数2~20的烷基或下述式所示的芳基;m为1~4的整数,
式中,R4为碳原子数1~20的烷基、碳原子数3~20的环烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数1~20的烷氧基、氰基、硝基、杂环基、卤素、羧基、羟基或碳原子数1~20的烷基甲硅烷基,p为0~5的整数。
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