[发明专利]产生用于处理基底的光束的光学系统无效
| 申请号： | 201080040777.0 | 申请日： | 2010-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN102498428A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | J.万格勒;M.莱;M.曾津格;H.明兹 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司激光器材有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;B23K26/06;B23K26/073 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学系统，该光学系统用于产生处理布置在基底平面(14)中的基底的光束，其中所述光束在垂直于所述光束的传播方向(Z)的第一维度(X)上具有束长度(L)，以及在垂直于所述第一维度(X)并且垂直于所述光传播方向(Z)的第二维度(Y)上具有束宽度(B)，其中相对于所述束宽度(B)，所述束长度(L)较大，所述光学系统包括第一光学布置(18)，所述第一光学布置(18)确定多个光通道(26；28)，所述多个光通道(26；28)在所述第一维度(X)上彼此相邻布置并且在所述第一维度(X)上将所述光束分成多个部分场(30，32，34)，其中所述部分场(30，32，34)在所述第一维度(X)上以彼此叠加的方式入射到所述基底平面(14)中。在所述光传播方向上，所述第一光学布置(18)的上游布置第二光学布置(20)，所述第二光学布置在所述第一维度(X)上具有这样的范围并且扩展入射到所述第二光学布置(18)上的光束(42)在第一维度(X)上的角谱，使得所述第二光学布置(20)在所述第一维度(X)上的集光率是所述光学系统在所述第一维度(X)上的总集光率的50％到100％，从而所述第一光学布置(18)的至少几乎所有光通道(26；28)都被光均匀地照明。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 用于 处理 基底 光束 光学系统 | ||
【主权项】：
一种光学系统，用于产生处理布置在基底平面(14)中的基底的光束，其中所述光束在垂直于所述光束的传播方向(Z)的第一维度(X)上具有束长度(L)，以及在垂直于所述第一维度(X)并且垂直于所述光传播方向(Z)的第二维度(Y)上具有束宽度(B)，其中相对于所述束宽度(B)，所述束长度(L)较大，所述光学系统包括第一光学布置(18)，所述第一光学布置(18)确定多个光通道(26；28)，所述多个光通道(26；28)在所述第一维度(X)上彼此相邻布置并且在所述第一维度(X)上将所述光束分成多个部分场(30，32，34)，其中所述部分场(30，32，34)在所述第一维度(X)上以彼此叠加的方式入射到所述基底平面(14)中，其特征在于：在所述光传播方向上，所述第一光学布置(18)的上游布置第二光学布置(20)，所述第二光学布置在所述第一维度(X)上具有这样的范围并且扩展入射到所述第二光学布置(18)上的光束(42)在第一维度(X)上的角谱，使得所述第二光学布置(20)在所述第一维度(X)上的集光率是所述光学系统在所述第一维度(X)上的总集光率的50％到100％，从而所述第一光学布置(18)的至少几乎所有光通道(26；28)都被光均匀地照明。
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