[发明专利]光谱纯度滤光片、光刻设备以及器件制造方法无效
| 申请号： | 201080042251.6 | 申请日： | 2010-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN102576194A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | A·亚库宁;V·班尼恩;M·凡赫彭;W·索尔;M·杰克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/00;G02B5/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光谱纯度滤光片，尤其是用在将EUV辐射用作投影束的光刻设备中。所述光谱纯度滤光片包括衬底内的多个孔。孔由壁限定，壁具有侧表面，所述侧表面相对于衬底的前表面的法线是倾斜的。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 纯度 滤光 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光谱纯度滤光片，具有多个孔，所述滤光片包括：衬底，包括第一表面；和多个壁，所述壁具有限定通过衬底的多个孔的侧表面，其中所述侧表面相对于第一表面的法线是倾斜的。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080042251.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
