[发明专利]处理装置有效
| 申请号： | 201080042447.5 | 申请日： | 2010-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN102574084A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 中野要介;小矢岛良章;石川修;关根靖由;高桥雄介 | 申请（专利权）人： | 日本焦化工业株式会社 |
| 主分类号： | B01J2/10 | 分类号： | B01J2/10;B01F7/16;B01J2/00 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种处理装置，进行例如给粉粒体施加较强压缩力或者剪切力这样的复合化等处理，结构简单且可以很简单地找出最佳的处理条件。该处理装置包括：立式混合槽(20)；以贯穿混合槽(20)的槽底的方式插入设置的旋转轴(30)；设置在旋转轴(30)上的多个搅拌叶片(40)；固定设置在所述混合槽(20)中的多个碰撞板(50)。在将混合槽(20)的直径取为d时，搅拌叶片(40)与碰撞板(50)的最短距离在0.1d以下。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种处理装置，其是粉粒体的处理装置，包括：立式混合槽；以贯穿所述混合槽的槽底的方式插入设置的旋转轴；设置在所述旋转轴上的多个搅拌叶片；固定设置在所述混合槽中的多个碰撞板，其特征在于，在将所述混合槽的直径取为d时，所述搅拌叶片与所述碰撞板的最短距离在0.1d以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本焦化工业株式会社，未经日本焦化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080042447.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：剥离剂、分离材料及粘合带
- 下一篇：便携式电子装置和记录介质
