[发明专利]光学系统中的、尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置有效
| 申请号： | 201080043766.8 | 申请日： | 2010-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN102576141A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | T.劳弗;A.索尔霍弗 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B7/18 | 分类号： | G02B7/18;F16L59/06;F25D19/04;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，该光学布置包括：至少一个发热子系统(110-810)，在光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120-820)，设置成至少部分吸收发热子系统(110-810)所发射的热；第一冷却装置(130-830)，与第一热屏蔽机械接触，并被设计成将来自第一热屏蔽的热散掉；以及第二热屏蔽(140-840)，至少部分吸收第一热屏蔽(120-820)所发射的热，同样地，第二热屏蔽(140-840)与将来自第二热屏蔽(140-840)的热散掉的冷却装置机械接触。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 中的 尤其是 微光 投射 曝光 设备 光学 布置 | ||
【主权项】：
一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，包括：至少一发热子系统(110‑810)，在所述光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120‑820)，设置成至少部分吸收所述发热子系统(110‑810)所发射的热；第一冷却装置(130‑830)，与所述第一热屏蔽机械接触，并被设计为将来自所述第一热屏蔽的热散掉；以及第二热屏蔽(140‑840)，至少部分吸收所述第一热屏蔽(120‑820)所发射的热，所述第二热屏蔽(140‑840)同样地与将来自所述第二热屏蔽(140‑840)的热散掉的冷却装置机械接触。
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