[发明专利]抑制二氧化硅和/或硅酸盐化合物在含水系统中沉积的方法无效
| 申请号： | 201080044628.1 | 申请日： | 2010-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN102549030A | 公开（公告）日： | 2012-07-04 |
| 发明（设计）人： | K·A·希尔施 | 申请（专利权）人： | 巴斯夫欧洲公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C02F5/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宓霞 |
| 地址： | 德国莱茵兰*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： |
本发明提供抑制二氧化硅和/或硅酸盐化合物在含水系统中的表面上沉积的方法。该方法包括将聚合物添加到该含水系统中的步骤。该聚合物包含至少一种结构单元(i)和至少一种附加结构单元(ii)。结构单元(i)由下式表示：(式i)；其中r是具有至少2个碳原子的烷基；r1选自氢原子、烷基、芳基、酯、酰胺和酰亚胺；k是2至4；且n为至少约10。附加结构单元(ii)含有至少一个选自羰基、磺酸酯基团和磷酸酯基团的基团。 |
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| 搜索关键词： | 抑制 二氧化硅 硅酸盐 化合物 含水 系统 沉积 方法 | ||
【主权项】：
1.抑制二氧化硅和/或硅酸盐化合物在含水系统中的表面上沉积的方法，所述方法包括将聚合物添加到该含水系统中的步骤，该聚合物包含：(i)至少一种由下式所示的结构单元：![]()
其中R是具有至少2个碳原子的烷基；R1选自氢原子、烷基、芳基、酯、酰胺和酰亚胺；k是2至4；n为至少约10；和(ii)至少一种附加结构单元，其包含至少一个选自羰基、磺酸酯基团和磷酸酯基团的基团。
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