[发明专利]放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法有效
申请号: | 201080045526.1 | 申请日: | 2010-11-16 |
公开(公告)号: | CN102597878A | 公开(公告)日: | 2012-07-18 |
发明(设计)人: | 切通优子;成冈岳彦;西村幸生;浅野裕介;川上峰规;中岛浩光 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;C08F220/22 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 左嘉勋;顾晋伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于,提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法;所述放射线敏感性树脂组合物含有:[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量%以上的聚合物,[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量%的聚合物,以及[C]放射线敏感性酸产生剂。 | ||
搜索关键词: | 放射线 敏感性 树脂 组合 聚合物 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,含有:[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量%以上的聚合物,[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量%的聚合物,以及[C]放射线敏感性酸产生剂;式(1-1)和(1-2)中,R1各自独立地为氢原子、低级烷基或者卤代低级烷基;式(1-1)中,Y是(2+d)价的饱和烃基;R2和R3各自独立地为烷基;其中,R2和R3可以相互键合并与Y一起形成脂环式结构;R4为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基;R3或R4多个存在时,多个R3和R4彼此相同或不同;R4的氢原子的一部分或者全部可以被取代;a为1或者2;b为0~3的整数;d为1或者2;式(1-2)中,R5为烷基;R6为烷基、烷氧基、酰基或者酰氧基;R6多个存在时,多个R6相同或不同;R6的氢原子的一部分或者全部可以被取代;e为1或者2;f为0~5的整数。
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