[发明专利]单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器有效
| 申请号： | 201080046622.8 | 申请日： | 2010-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102575382A | 公开（公告）日： | 2012-07-11 |
| 发明（设计）人： | 真田和夫;岛村清史;比略拉·恩卡纳西翁·安东尼亚·加西亚 | 申请（专利权）人： | 株式会社藤仓;独立行政法人物质·材料研究机构 |
| 主分类号： | C30B29/28 | 分类号： | C30B29/28;G02B27/28 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 苗堃;金世煜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光隔离器用单晶及其制造方法、以及光隔离器及使用其的光加工器，该光隔离器用单晶在波长1064nm以上的波长区域或低于1064nm的波长区域内，具备超过TGG单晶的法拉第旋转角，且能够实现大型化。本发明涉及的单晶的特征在于，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥取代。 | ||
| 搜索关键词： | 及其 制造 方法 以及 隔离器 使用 加工 | ||
【主权项】：
一种单晶，由铽铝石榴石单晶构成，主要是铝的一部分被镥即Lu取代。
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