[发明专利]用于光学元件的聚焦补偿及其应用有效
| 申请号： | 201080047536.9 | 申请日： | 2010-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN102668082A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 威廉·哈德森·韦尔奇;大卫·奥维鲁特斯基;安德鲁·阿兰达 | 申请（专利权）人： | 数字光学（东部）公司 |
| 主分类号： | H01L27/146 | 分类号： | H01L27/146 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 关兆辉;谢丽娜 |
| 地址： | 美国北卡*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了具有期望的焦距属性的光学成像设备，该光学成像设备可以以晶片级制造和/或组装。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 元件 聚焦 补偿 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种光学成像设备，包括：至少一个晶片级光学元件；隔离物，所述隔离物耦合到所述至少一个晶片级光学元件；以及在所述隔离物上的多个聚焦补偿支架，该支架限定光电元件或晶片级光学元件安装表面，所述光电元件或晶片级光学元件安装表面具有与所述隔离物的至少另一个表面粗糙度不同的表面粗糙度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
