[发明专利]具有低反射和高接触角的基板及其制备方法无效
| 申请号： | 201080049593.0 | 申请日： | 2010-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN102597815A | 公开（公告）日： | 2012-07-18 |
| 发明（设计）人： | 金台洙;金在镇;辛富建;洪瑛晙;崔贤 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/10 | 分类号： | G02B1/10;H01L21/027;B82B3/00 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 黄丽娟;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种基板，其包括：基底，该基底的至少一面上具有图案，其中，根据该图案的形状，该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同；和斥水涂层，该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上，以及本发明提供一种包括所述基板的光学产品和该基板的制备方法。根据本发明的基板具有优异的防反射性能和优异的斥水性能。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 反射 接触角 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种基板，包括：1)基底，在该基底的至少一面上具有图案，其中，根据该图案的形状，该图案的下部区域的折射率和该图案的上部区域的折射率彼此不同；和2)斥水涂层，该斥水涂层设置在所述基底的至少一个具有图案的面上。
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