[发明专利]化学机械抛光用浆料以及使用其的基板的抛光方法有效
| 申请号： | 201080051174.0 | 申请日： | 2010-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN102666760A | 公开（公告）日： | 2012-09-12 |
| 发明（设计）人： | 竹越穣;加藤充;冈本知大;加藤晋哉 | 申请（专利权）人： | 可乐丽股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 高旭轶;郭文洁 |
| 地址： | 日本冈山县*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光用浆料和使用该浆料的基板的抛光方法，所述化学机械抛光用浆料包含水溶性包合化合物(a)、具有任选为盐形式的酸性基团作为侧链的高分子化合物(b)、抛光研磨粒料(c)和水(d)，其中，水溶性包合化合物(a)的含量是浆料总量的0.001质量%-3质量%，高分子化合物(b)具有1,000以上且小于1,000,000的重均分子量，并且高分子化合物(b)的含量是浆料总量的0.12质量%-3质量%。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 浆料 以及 使用 抛光 方法 | ||
【主权项】：
化学机械抛光用浆料，其包含：水溶性包合化合物(a)、具有任选为盐形式的酸性基团作为侧链的高分子化合物(b)、抛光研磨粒料(c)和水(d)，其中相对于浆料的总量，含有0.001质量%‑3质量%的水溶性包合化合物(a)，高分子化合物(b)具有1,000以上且小于1,000,000的重均分子量，并且相对于浆料的总量，含有0.12质量%‑3质量%。
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