[发明专利]化合物有效
申请号: | 201080052079.2 | 申请日: | 2010-11-18 |
公开(公告)号: | CN102712664A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 新海征治;原口修一;白木智丈;小川雅司;中谷修平;坂上惠;后藤修;柿本秀信 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社;住友化学株式会社 |
主分类号: | C07F7/18 | 分类号: | C07F7/18;G03F7/004 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪惠民 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的课题在于,在照射光而进行功能性薄膜的微细图案处理的情况下,抑制照射光的层的基底层的特性降低及功能性薄膜的特性降低。课题的解决途径是,提供一种化合物,是利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得,所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团,所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。 | ||
搜索关键词: | 化合物 | ||
【主权项】:
一种化合物,其特征在于,利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)进行二聚化反应而得,所述化合物(A)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有亲液性的基团,所述化合物(B)包含具有感光性且可以进行光二聚化反应的感光性基团、和具有疏液性的基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下电器产业株式会社;住友化学株式会社,未经松下电器产业株式会社;住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080052079.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。