[发明专利]环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法有效
申请号: | 201080053806.7 | 申请日: | 2010-11-25 |
公开(公告)号: | CN102666461A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 高须贺大晃;越后雅敏;冈田悠 | 申请(专利权)人: | 三菱瓦斯化学株式会社 |
主分类号: | C07C43/253 | 分类号: | C07C43/253;C07C41/30;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027;C07B61/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开的是:对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、能够形成具有良好形状的抗蚀图案和很少引起抗蚀图案塌陷的环状化合物;所述环状化合物的生产方法;包含所述环状化合物的放射线敏感性组合物;和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。具体公开的是:具有特定结构的环状化合物;环状化合物的生产方法;包含所述化合物的放射线敏感性组合物;和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。 | ||
搜索关键词: | 环状 化合物 生产 方法 放射线 敏感性 组合 图案 形成 | ||
【主权项】:
1.一种环状化合物,其由下式(1)表示:(式(1)中,R12独立地为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基或者氢原子组成的组的官能团;(在这方面,它们中R12的至少之一为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团)X独立地为选自由氢原子、1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基团、卤素原子、羧基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团;R’独立地为选自由1至20个碳的烷基、具有羧基的1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、具有羧基的3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团;(在这方面,R’的至少之一为具有羧基和/或羟基的1至20个碳的烷基、具有羧基和/或羟基的3至20个碳的环烷基,或者由下式表示的基团:其中,R4为选自由1至14个碳的烷基、3至14个碳的环烷基、6至14个碳的芳基、1至14个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基、1至14个碳的烷基甲硅烷基和2至14个碳的烷基酯基组成的组的官能团,R4的至少之一为羟基或羧基,p为1至5的整数。))
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