[发明专利]环状化合物、其生产方法、放射线敏感性组合物和抗蚀图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201080053806.7 申请日: 2010-11-25
公开(公告)号: CN102666461A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 高须贺大晃;越后雅敏;冈田悠 申请(专利权)人: 三菱瓦斯化学株式会社
主分类号: C07C43/253 分类号: C07C43/253;C07C41/30;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027;C07B61/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开的是:对于安全溶剂的溶解性高、高灵敏度、能够形成具有良好形状的抗蚀图案和很少引起抗蚀图案塌陷的环状化合物;所述环状化合物的生产方法;包含所述环状化合物的放射线敏感性组合物;和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。具体公开的是:具有特定结构的环状化合物;环状化合物的生产方法;包含所述化合物的放射线敏感性组合物;和使用所述组合物的抗蚀图案形成方法。
搜索关键词: 环状 化合物 生产 方法 放射线 敏感性 组合 图案 形成
【主权项】:
1.一种环状化合物,其由下式(1)表示:(式(1)中,R12独立地为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基或者氢原子组成的组的官能团;(在这方面,它们中R12的至少之一为选自由6至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团)X独立地为选自由氢原子、1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、羟基、杂环基团、卤素原子、羧基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团;R’独立地为选自由1至20个碳的烷基、具有羧基的1至20个碳的烷基、3至20个碳的环烷基、具有羧基的3至20个碳的环烷基、6至20个碳的芳基、1至20个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基、1至20个碳的烷基甲硅烷基和2至20个碳的烷基酯基组成的组的官能团;(在这方面,R’的至少之一为具有羧基和/或羟基的1至20个碳的烷基、具有羧基和/或羟基的3至20个碳的环烷基,或者由下式表示的基团:其中,R4为选自由1至14个碳的烷基、3至14个碳的环烷基、6至14个碳的芳基、1至14个碳的烷氧基、氰基、硝基、杂环基团、卤素原子、羧基、羟基、1至14个碳的烷基甲硅烷基和2至14个碳的烷基酯基组成的组的官能团,R4的至少之一为羟基或羧基,p为1至5的整数。))
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱瓦斯化学株式会社,未经三菱瓦斯化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080053806.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top